2025年11月22日，由中国感光学会光刻材料与技术专业委员会组织的中国感光学会第三届光刻材料与技术讨论会在北京国际会议中心成功举办。会议围绕光刻材料与技术的研究热点展开交流，吸引了来自全国高校、科研院所和企业的140余位学者、专家及在读研究生，共同探讨该领域的最新进展和未来发展趋势。

会议内容涵盖了光刻材料的研发、生产与应用的各个领域，重点包括极紫外光刻胶的研发与验证、光刻胶产业化生产技术、AI驱动的光刻胶材料设计与模拟、下一代光刻技术等关键议题。会议旨在通过深入交流与协同合作，推动我国光刻材料与技术的发展，助力相关产业实现技术突破与升级。

中国科学院化学研究所宋延林研究员、复旦大学伍强教授应邀作大会特邀报告。南开大学罗锋教授、北方集成电路创新技术中心（北京）有限公司康劲总经理、中国科学院理化技术研究所陈金平研究员、苏州实验室张汝志研究员、合光光掩模科技（安徽）有限公司姚树歆总经理应邀作大会主旨报告。来自清华大学、中国科学技术大学、浙江大学、南开大学、山东大学、复旦大学、中国科学院空天信息创新研究院、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、大连理工大学、北京理工大学、南京大学、同济大学、华中科技大学、中国科学院光电技术研究所、北京师范大学、上海大学、张江实验室、中国科学院上海高等研究院、国科天骥（山东）新材料有限责任公司、江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司等二十家高校、科研院所和企业的专家学者作邀请报告。参会人员围绕报告主题与报告人展开了热烈讨论。

中国感光学会张丽萍理事长为大会作视频致辞，大会主席、中国感光学会光刻材料与技术专委会主任杨国强研究员为大会致开幕辞，强调在先进光刻材料与技术领域，突破国外“卡脖子”问题是当前必须面对的重大挑战，希望借助本次会议提供的交流机会，促进高校、科研院所与企业之间的协作，共同推动国内相关产业的进步。

本次会议的成功举办，进一步加强了学术界与企业界的互动与合作，也为我国光刻材料与技术的发展注入了新动力。未来，中国感光学会将继续打造高水平交流平台，助力我国在光刻材料与技术领域实现持续创新与能力提升。

 会议主席杨国强研究员致辞

 
参会人员合影

参会嘉宾和报告人掠影

（来源：中国感光学会光刻材料与技术专业委员会）