2011年11月19日，中国感光学会在北京召开学会成立30周年庆祝大会暨2011年学术年会。国内影像科技界、企业界专家学者、科技人员，中国感光学会历届领导、全国会员代表，近240名参加了会议。中国科学院院士佟振合、中国工程院院士邹竞，中国科协学会服务中心主任、党委书记李桐海出席了大会。

大会特别邀请日本、韩国专家出席大会并作特邀报告。日本JSR株式会社精密电子研究所半导体材料开发室室长山口佳一（Yoshikazu Yamaguchi）在《Lithography: Its Path of Evolution and Future Trends》报告中，介绍了光刻技术的演变和未来趋势。韩国首尔国立大学教授李昌熙（Chang Hee Lee）作了《Recent Trends in Printed Electronics in Korea》学术报告，介绍了印刷电子在韩国的最新发展趋势。

报告结束后，与会代表与日本、韩国专家进行了深入的探讨和交流。日、韩两国专家会后还参观了中国科学院理化技术研究所的相关实验室，探讨了进一步合作的可能性及合作领域等内容。

中国感光学会一直与国外影像界社团保持着良好的合作关系。此次邀请日本、韩国专家作特邀报告，是中国感光学会理事长蒲嘉陵教授与日本影像学会(ISJ)及韩国影像学会(KSIST)有关负责人联系沟通后确定的。2010年5月，中国感光学会在北京举办第31届国际影像科学大会(ICIS2010)，日本影像学会及韩国影像学会均作为合作学会，组织了本国专家参加会议。

中国感光学会将继续重视与国外影像科技组织之间的联系与合作，推动我国影像技术发展，提高中国在国际影像界的地位。

日本JSR株式会社精密电子研究所半导体材料开发室室长山口佳一作报告

韩国首尔国立大学教授李昌熙（Chang Hee Lee）作报告